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UV光氧催化設備工藝原理

UV光氧催化設備工藝原理

簡要描述:
UV光氧催化設備工藝原理

光氧除臭設備技術原理
一、本產品利用臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H2O等。

更新時間:2019-05-07

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廠商性質:生產廠家

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UV光氧催化設備工藝原理

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UV光氧催化設備工藝原理

光氧除臭設備技術原理
一、本產品利用臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體,改變惡臭使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H2O等。
二、利用臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),*臭氧對有機物具有強的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。
三、惡臭氣體利用排風設備輸入到本凈化設備后,凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應,使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過排風管道排出室外。
四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞細菌的核酸(DNA),再通過臭氧進行氧化反應,*達到脫臭及殺滅細菌的目的。

 

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